吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料
YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產品已通過中芯國際量產驗證，良率達 98% 以上，生產過程執(zhí)行 ISO9001 標準，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求，為國產芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。
PCB光刻膠國產化率超50%。貴州激光光刻膠感光膠
廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。
厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景，如一些特殊的電路板制造。
SU - 3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應。重量為 100g，常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率，準確性和穩(wěn)定性好。主要應用于液晶平板顯示器的制造，能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高。重量 100g，適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如一些半導體器件的制造。
浙江負性光刻膠工廠聚焦封裝需求，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務。
作為深耕半導體材料領域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導體材料有限公司始終將技術創(chuàng)新與產品質量視為重要發(fā)展動力。公司位于東莞松山湖產業(yè)集群，依托區(qū)域產業(yè)鏈優(yōu)勢，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導體材料解決方案。
公司產品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等，原材料均嚴格選用美國、德國、日本等國的質量進口材料。通過全自動化生產設備與精細化工藝控制，確保每批次產品的穩(wěn)定性與一致性。例如，納米壓印光刻膠采用特殊配方，可耐受 250℃高溫及復雜化學環(huán)境，適用于高精度納米結構制造；LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性，成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。
國際標準與客戶認證
公司通過ISO9001、ISO14001等認證，并嚴格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理，生產環(huán)境潔凈度達Class 10級。其光刻膠產品已通過京東方、TCL華星的供應商認證，在顯示面板領域的市占率約5%，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國默克競爭的廠商。
全流程可追溯體系
吉田半導體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統(tǒng)，關鍵批次數(shù)據(jù)（如樹脂分子量分布、光敏劑純度）實時上傳云端，確保產品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級芯片等對可靠性要求極高的領域獲得突破，2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%。
東莞光刻膠廠家哪家好？
主要優(yōu)勢：細分領域技術突破與產業(yè)鏈協(xié)同
技術積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經驗，實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達3μm，適用于MEMS傳感器、光學器件等領域，填補了國內空白。
技術壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術，部分原材料純度達PPT級，金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。
產品多元化與技術化布局
產品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如：
LCD光刻膠：適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術，與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產品，良率提升至98%。
半導體錫膏：供應華為、OPPO等企業(yè)，年采購量超200噸，用于5G手機主板封裝。
技術化延伸：計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā)，目標進入中芯國際、長江存儲供應鏈。
質量控制與生產能力
通過ISO9001:2008質量體系認證，生產環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進口高質量材料。擁有全自動化生產線，年產能達2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。
感光膠的工藝和應用。無錫LCD光刻膠感光膠
吉田產業(yè)鏈協(xié)同與政策紅利。貴州激光光刻膠感光膠
吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘，國產替代再迎新進展
自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證，吉田半導體填補國內光刻膠空白。
吉田半導體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國際量產驗證。該產品采用國產原材料與自主配方，突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產率提升 30%，蝕刻選擇比達 4:1，性能對標日本信越的 ArF 系列。吉田半導體的技術突破加速了國產芯片制造材料自主化進程，為國內晶圓廠提供高性價比解決方案。
貴州激光光刻膠感光膠
