廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。
UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào)，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造。
其他光刻膠
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水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，重量 1L。
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水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢(shì)，應(yīng)用場(chǎng)景。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載，提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。江西UV納米光刻膠廠家
吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進(jìn)口品牌品質(zhì)，本地化服務(wù)支持
柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù)，提供高性價(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案。
吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國(guó)先進(jìn)配方，分辨率達(dá) 120 線 / 英寸，適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過(guò) SGS 認(rèn)證，符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求，其高感光度與耐摩擦性，確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù)，幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程，降低材料損耗。
廣西高溫光刻膠生產(chǎn)廠家水性感光膠推薦吉田 JT-1200，水油兼容配方，鋼片加工精度 ±5μm！
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證
公司通過(guò)ISO9001、ISO14001等認(rèn)證，并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場(chǎng)管理，生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級(jí)。其光刻膠產(chǎn)品已通過(guò)京東方、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證，在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國(guó)默克競(jìng)爭(zhēng)的廠商。
全流程可追溯體系
吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫(kù)到成品出庫(kù)的全流程追溯系統(tǒng)，關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)（如樹(shù)脂分子量分布、光敏劑純度）實(shí)時(shí)上傳云端，確保產(chǎn)品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級(jí)芯片等對(duì)可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破，2023年車用光刻膠銷售額同比增長(zhǎng)120%。
吉田半導(dǎo)體厚板光刻膠 JT-3001：國(guó)產(chǎn)技術(shù)助力 PCB 行業(yè)升級(jí)
JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻，成為國(guó)產(chǎn) PCB 電路板制造推薦材料。
吉田半導(dǎo)體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度 PCB 制造。其無(wú)鹵無(wú)鉛配方通過(guò)歐盟 RoHS 認(rèn)證，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%，幫助客戶提升生產(chǎn)效率 20%，加速國(guó)產(chǎn) PCB 行業(yè)技術(shù)升級(jí)，推動(dòng) PCB 行業(yè)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。
光刻膠技術(shù)突破加速，對(duì)芯片制造行業(yè)有哪些影響？
化學(xué)反應(yīng)：
正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在堿性顯影液中溶解；
負(fù)性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
5. 顯影（Development）
顯影液：
正性膠：堿性水溶液（如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH），溶解曝光區(qū)域；
負(fù)性膠：有機(jī)溶劑（如二甲苯、醋酸丁酯），溶解未曝光區(qū)域。
方法：噴淋顯影（PCB）或沉浸式顯影（半導(dǎo)體），時(shí)間30秒-2分鐘，需控制顯影液濃度和溫度。
6. 后烘（Post-Bake）
目的：固化膠膜，提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性。
條件：
溫度：100-150℃（半導(dǎo)體用正性膠可能更高，如180℃）；
時(shí)間：15-60分鐘（厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長(zhǎng)）。
7. 蝕刻/離子注入（后續(xù)工藝）
蝕刻：以膠膜為掩膜，通過(guò)濕法（酸堿溶液）或干法（等離子體）刻蝕基板材料（如硅、金屬、玻璃）；
離子注入：膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域，使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域（半導(dǎo)體摻雜工藝）。
8. 去膠（Strip）
方法：
濕法去膠：強(qiáng)氧化劑（如硫酸+雙氧水）或有機(jī)溶劑（如N-甲基吡咯烷酮NMP）；
干法去膠：氧等離子體灰化（半導(dǎo)體領(lǐng)域，無(wú)殘留）。
廣東光刻膠廠家哪家好？廣西紫外光刻膠生產(chǎn)廠家
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)！江西UV納米光刻膠廠家
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場(chǎng)，通過(guò)嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴。公司產(chǎn)品不僅通過(guò) ISO9001 認(rèn)證，更以進(jìn)口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì)，例如錫膏產(chǎn)品采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方，符合環(huán)保要求，適用于電子產(chǎn)品制造。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球，與富士康、聯(lián)想等企業(yè)保持長(zhǎng)期合作，并在全國(guó)重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處，提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù)。
作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)，吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競(jìng)爭(zhēng)力。公司投入大量資源開(kāi)發(fā)新型光刻膠及焊接材料，例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏，滿足精密電子組裝的需求。同時(shí)，依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢(shì)，公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同，縮短交付周期，為客戶提供高效解決方案。未來(lái)，吉田半導(dǎo)體將持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新與全球合作，助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階。
江西UV納米光刻膠廠家
