• YK-300 正性光刻膠：分辨率達(dá) 0.35μm，線(xiàn)寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于 45nm 及以上制程，良率達(dá) 98% 以上，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%，已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證。
• SU-3 負(fù)性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝，良率提升至 98.5%。
• JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限，圖形保真度 > 95%，性能對(duì)標(biāo)德國(guó) MicroResist 系列，已應(yīng)用于國(guó)產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工，在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，由工廠(chǎng)研發(fā)且支持定制，工廠(chǎng)直銷(xiāo)。 天津激光光刻膠多少錢(qián)吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā)，布局下一代光刻技術(shù)。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心，逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域，形成了 “技術(shù)驅(qū)動(dòng)、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠，還延伸至錫膏、焊片、靶材等配套材料，為客戶(hù)提供一站式采購(gòu)服務(wù)。

• 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球 50 多個(gè)地區(qū)，客戶(hù)包括電子制造服務(wù)商（EMS）及半導(dǎo)體廠(chǎng)商。
• 獲評(píng) “廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)”“廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)”，并通過(guò)技術(shù)企業(yè)認(rèn)證。
• 生產(chǎn)基地配備自動(dòng)化設(shè)備，年產(chǎn)能超千噸，滿(mǎn)足大規(guī)模訂單需求。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年，適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景，如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)。重量為 100g，常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造，能滿(mǎn)足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高。重量 100g，適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如一些半導(dǎo)體器件的制造。 發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位。合肥激光光刻膠工廠(chǎng)

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別，以滿(mǎn)足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào)，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造。

其他光刻膠

• 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠(chǎng)研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，重量 1L。
• 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢(shì)，應(yīng)用場(chǎng)景。

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