廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。
厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工，在對精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域。
水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器、太陽能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷。
吉田半導(dǎo)體全系列產(chǎn)品覆蓋，滿足多元化需求。濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
差異化競爭策略
在高級市場（如ArF浸沒式光刻膠），吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新，通過優(yōu)化現(xiàn)有配方（如提高酸擴(kuò)散抑制效率）逐步縮小與國際巨頭的差距；在中低端市場（如PCB光刻膠），則憑借性價(jià)比優(yōu)勢（價(jià)格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%）快速搶占份額，2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%。
前沿技術(shù)儲備
公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心，重點(diǎn)攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機(jī)框架（MOF）光刻膠，目標(biāo)在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)EUV光刻膠的實(shí)驗(yàn)室級突破。此外，其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲芯片的孔陣列加工，分辨率達(dá)10nm，為國產(chǎn)存儲廠商提供了替代方案。
四川水性光刻膠國產(chǎn)廠家松山湖光刻膠廠家吉田，2000 萬級產(chǎn)能，48 小時極速交付!
定義與特性
負(fù)性光刻膠是一種在曝光后，未曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比，其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng)、工藝簡單、成本低，但分辨率較低（通常≥1μm），主要應(yīng)用于對精度要求相對較低、需要厚膠或高耐腐蝕性的場景。
化學(xué)組成與工作原理
主要成分
基體樹脂：
早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯，提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性。
光敏劑：
主要為雙疊氮化合物（如雙疊氮芪）或重氮醌類衍生物，占比約5%-10%，吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。
交聯(lián)劑：
如六亞甲基四胺（烏洛托品），在曝光后與樹脂發(fā)生交聯(lián)，形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
溶劑：
多為有機(jī)溶劑（如二甲苯、環(huán)己酮），溶解樹脂和光敏劑，涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜。
工作原理
曝光前：光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹脂中，膠膜可溶于顯影液（有機(jī)溶劑）。
曝光時：
光敏劑吸收紫外光（G線436nm為主）后產(chǎn)生活性自由基，引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián)，使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
顯影后：
未曝光區(qū)域的樹脂因未交聯(lián)，被顯影液溶解去除，曝光區(qū)域保留，形成負(fù)性圖案（與掩膜版相反）。
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：
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芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲，支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
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顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%，成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
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新能源領(lǐng)域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證，批量應(yīng)用于寧德時代儲能系統(tǒng)，年供貨量超 500 噸。
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研發(fā)投入：年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%，承擔(dān)國家 02 專項(xiàng)課題，獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”。
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產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
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質(zhì)量體系：通過 ISO9001、IATF 16949 等認(rèn)證，生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā)，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破，目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時，深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”。
從突破國際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路。未來，公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù)，助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
納米級圖案化的主要工具。
工藝流程
目的：去除基板表面油污、顆粒，增強(qiáng)感光膠附著力。
方法：
化學(xué)清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）；
表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板用粗化處理）。
涂布（Coating）
方式：
旋涂：半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域，厚度控制精確（納米至微米級），轉(zhuǎn)速500-5000rpm；
噴涂/輥涂：PCB/MEMS領(lǐng)域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級，如負(fù)性膠可達(dá)100μm）。
關(guān)鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度、基板溫度（影響厚度均勻性）。
前烘（Soft Bake）
目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜，增強(qiáng)附著力和穩(wěn)定性。
條件：
溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃；負(fù)性膠可至100℃以上）；
時間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調(diào)整，厚膠需更長時間）。
曝光（Exposure）
光源：
紫外光（UV）：G線（436nm）、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）；
深紫外（DUV）：248nm（KrF）、193nm（ArF）用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程（分辨率至20nm）；
極紫外（EUV）：13.5nm，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）。
曝光方式：
接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB、MEMS，低成本但精度低）；
投影式：通過物鏡聚焦（半導(dǎo)體，分辨率高，如ArF光刻機(jī)精度達(dá)22nm）。
聚焦封裝需求，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務(wù)。濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
正性光刻膠的工藝和應(yīng)用場景。濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：
在晶圓表面涂覆光刻膠，通過掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。
印刷電路板（PCB）：
保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層，制作線路和焊盤。
顯示面板（LCD/OLED）：
用于制備彩色濾光片、電極圖案等。
微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：
加工微結(jié)構(gòu)（如傳感器、執(zhí)行器）。
工作原理（以正性膠為例）
1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠，烘干形成薄膜。
2. 曝光：通過掩膜版，用特定波長光線照射，曝光區(qū)域的光敏劑分解，使樹脂變得易溶于顯影液。
3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域，留下未曝光的光刻膠圖案，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。
4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域），或去除光刻膠（剝離工藝）。
濟(jì)南厚膜光刻膠供應(yīng)商
