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來源: 發(fā)布時間:2025-06-14

光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠)

  • 液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產(chǎn)過程中,光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細圖案,包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果,如分辨率、對比度、視角等。
  • 有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點,而光刻膠能保障其精細的像素結(jié)構(gòu)制作,提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。


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  1. 全品類覆蓋
    吉田半導體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,技術(shù)布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商。
  2. 關(guān)鍵技術(shù)突破
    納米壓印技術(shù):JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達 250℃,支持納米級精度圖案復制,適用于第三代半導體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,技術(shù)指標接近國際先進水平。
    水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標準,環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品。
    厚膜工藝能力:JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控(達數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。
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  1. 正性光刻膠(如 YK-300)
    應(yīng)用場景:用于芯片的精細圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。
    特點:高分辨率(可達亞微米級),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。
  2. 負性光刻膠(如 JT-1000)
    應(yīng)用場景:用于功率半導體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。
    特點:抗蝕刻能力強,適合復雜圖形的轉(zhuǎn)移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
  3. 納米壓印光刻膠(JT-2000)
    應(yīng)用場景:第三代半導體(GaN、SiC)芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點:耐高溫(250℃)、耐酸堿,支持納米級精度圖案復制,降低芯片的制造成本。

國際廠商策略調(diào)整
應(yīng)用材料公司獲曝光后處理,可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調(diào)查在中國市場面臨壓力,但其新一代乾膜式感光型介電質(zhì)材料(CYCLOTENE DF6000 PID)仍在推進,試圖通過差異化技術(shù)維持優(yōu)勢。日本企業(yè)則通過技術(shù)授權(quán)(如東京應(yīng)化填補信越產(chǎn)能缺口)維持市場地位。

 國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同升級
TSMC通過租賃曝光設(shè)備幫助供應(yīng)商降低成本,推動光刻膠供應(yīng)鏈本地化,其中國臺灣EUV光刻膠工廠年產(chǎn)能達1000瓶,產(chǎn)值超10億新臺幣。國內(nèi)企業(yè)借鑒此模式,如恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元,建設(shè)集成電路前驅(qū)體項目,形成“光刻膠-前驅(qū)體-設(shè)備”協(xié)同生態(tài)。

 技術(shù)標準與壁壘
美國實體清單限制日本廠商對華供應(yīng)光刻膠,中國企業(yè)需突破。例如,日本在EUV光刻膠領(lǐng)域持有全球65%的,而中國占12%。國內(nèi)企業(yè)正通過產(chǎn)學研合作(如華中科技大學與長江存儲聯(lián)合攻關(guān))構(gòu)建自主知識產(chǎn)權(quán)體系。

松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載,提供全系列半導體材料解決方案。

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吉田半導體獲評 "專精特新" 企業(yè),行業(yè)技術(shù)標準,以技術(shù)創(chuàng)新與標準化生產(chǎn)為,吉田半導體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號,樹立行業(yè)。
憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn),吉田半導體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" ",承擔多項國家 02 專項課題。公司主導制定《半導體光刻膠用樹脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標準,推動國產(chǎn)材料標準化進程。未來,吉田半導體將繼續(xù)以" 中國半導體材料方案提供商 "為愿景,深化技術(shù)研發(fā)與市場拓展,為全球半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。正性光刻膠生產(chǎn)原料。青島阻焊光刻膠國產(chǎn)廠商

光刻膠技術(shù)突破加速,對芯片制造行業(yè)有哪些影響?煙臺阻焊光刻膠感光膠

吉田半導體助力區(qū)域經(jīng)濟,構(gòu)建半導體材料生態(tài)圈,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導體聯(lián)合上下游資源,推動東莞松山湖半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導體聯(lián)合光刻機制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,促進產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。例如,與華中科技大學合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,極限分辨率 120nm,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,已實現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,為區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展注入新動能。煙臺阻焊光刻膠感光膠

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