可用于300mm半導(dǎo)體晶圓搬送的5軸水平多關(guān)節(jié)潔凈機(jī)械手臂GTCR5000系列。

單臂雙手指結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)和雙臂結(jié)構(gòu)同樣的功能。

適用于300mm半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)部，檢測設(shè)備等的晶圓搬運(yùn)。

機(jī)械手臂標(biāo)準(zhǔn)臂長: 210mm, 280mm機(jī)械手臂可以單獨(dú)對應(yīng)2個FOUP（210mm臂長）

或者3個FOUP（280mm臂長）雙手指結(jié)構(gòu)能夠縮短更換晶圓時的手臂動作時間適應(yīng)設(shè)備需求可以選擇底座固定方式，或者法蘭固定方式配備動作監(jiān)視器控制通訊方式：RS232C及并口I/O方式全軸采用絕對值編碼器規(guī)格的AC伺服電機(jī)通過S曲線加減速控制方式以及對運(yùn)動軌跡的優(yōu)化

能夠高速，高精度地搬運(yùn)半導(dǎo)體晶圓晶圓固定方式：真空吸附式，下托式，邊緣夾持式，伯努利非接觸式手指材質(zhì)：CFRP(碳纖維),鋁合金，高純度陶瓷等多種可選材質(zhì) 對于粉塵作業(yè)的機(jī)械手還要添裝防塵設(shè)施。清遠(yuǎn)新款晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂怎么聯(lián)系

割拋光：

單晶棒將按適當(dāng)?shù)某叽邕M(jìn)行切割，然后進(jìn)行研磨，將凹凸的切痕磨掉，再用化學(xué)機(jī)械拋光工藝使其至少一面光滑如鏡，晶圓片制造就完成了。

二，晶圓制造步驟

晶圓鍍膜：

通過物理或其他方式（如高溫等）使晶圓上產(chǎn)生一層二氧化硅。二氧化硅為絕緣材料，但有雜質(zhì)和特殊處理的二氧化硅有一定的導(dǎo)電性。二氧化硅在這里的作用是為了傳導(dǎo)光。像是用二氧化硅做光導(dǎo)纖維是同一個道理。完成這步后就為后面光刻做好了準(zhǔn)備。

光刻膠涂抹：

顧名思義，就是在晶圓表面覆蓋上一層光刻膠，而對其技術(shù)要求是要做到平整和薄。 蘇州官方晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂價格手臂上的零部件，如油缸、導(dǎo)向桿、控制件等都安裝在手臂上。

    控制策略對柔性機(jī)械臂的控制一般有如下方式,1)剛性化處理。完全忽略結(jié)構(gòu)的彈性變形對結(jié)構(gòu)剛體運(yùn)動的影響。例如為了避免過大的彈性變形破壞柔性機(jī)械臂的穩(wěn)定性和末端定位精度NASA的遙控太空手運(yùn)動的比較大角速度為。2)前饋補(bǔ)償法。將機(jī)械臂柔性變形形成的機(jī)械振動看成是對剛性運(yùn)動的確定性干擾而采用前饋補(bǔ)償?shù)霓k法來抵消這種干擾。德國的BerndGebler研究了具有彈性桿和彈性關(guān)節(jié)的工業(yè)機(jī)器人的前饋控制。張鐵民研究了基于利用增加零點(diǎn)來消除系統(tǒng)的主導(dǎo)極點(diǎn)和系統(tǒng)不穩(wěn)定的方法設(shè)計了具有時間延時的前饋控制器和PID控制器比較起來可以更加明顯的消除系統(tǒng)的殘余振動。SeeringWarrenP。等學(xué)者對前饋補(bǔ)償技術(shù)進(jìn)行了深入的研究。

本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造技術(shù)，尤其是一種用于晶圓搬運(yùn)的機(jī)械手。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體加工設(shè)備中，經(jīng)常需要將晶圓在各個工位之間進(jìn)行傳送，在傳送的過程中，傳送精度越高，設(shè)備工藝一致性就越好，速度越快，單臺設(shè)備的產(chǎn)能就越大。隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展，設(shè)備處理的工藝越來越復(fù)雜，對設(shè)備自動化程度、柔性化程度要求也越來越高，這就需要一種定位精度高，速度快的多自由度的機(jī)械手。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供了一種晶圓搬運(yùn)機(jī)械手，本發(fā)明的機(jī)械手在傳送過程中晶片中心始終保證直線運(yùn)動，且角度不會發(fā)生改變。從而提高機(jī)械手整體剛度和承重能力，同時提高了重復(fù)定位精度。本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理性能穩(wěn)定，維護(hù)方便，多功能集一身，可滿足多種工藝設(shè)備要求，適用于各種半導(dǎo)體設(shè)備。

直角坐標(biāo)系機(jī)械手臂有三個主自由度。

進(jìn)行光刻：

將設(shè)計好的電路掩模，置于光刻機(jī)的紫外射線下，然后再在它的下面放置Wafer，這一刻，Wafer上被光刻部分的光刻膠被融化掉，刻上了電路圖。然后將光刻膠去除，光刻膠上的圖案要與掩模上的圖案一致，然后進(jìn)行再次光刻。一般來說一個晶圓的電路要經(jīng)過多次光刻。而隨著技術(shù)革新，極紫光刻出現(xiàn)了，現(xiàn)階段光刻的效率變得比以前更高，甚至于可以達(dá)到光刻一次完成。

注射：

在真空下，將導(dǎo)電材料注入晶圓的電路內(nèi)部。其真空的標(biāo)準(zhǔn)比無菌室或ICU還要高出千萬倍。 精確地定位到三維（或二維）空間上的某一點(diǎn)進(jìn)行作業(yè)。惠州晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂上門服務(wù)

機(jī)械手要獲得較高的位置精度，除采用先進(jìn)的控制方法外，在結(jié)構(gòu)上還注意以下幾個問題；清遠(yuǎn)新款晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂怎么聯(lián)系

機(jī)械臂是指高精度，多輸入多輸出、高度非線性、強(qiáng)耦合的復(fù)雜系統(tǒng)。因其獨(dú)特的操作靈活性, 已在工業(yè)裝配, 安全防爆等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。機(jī)械臂是一個復(fù)雜系統(tǒng), 存在著參數(shù)攝動、外界干擾及未建模動態(tài)等不確定性。因而機(jī)械臂的建模模型也存在著不確定性，對于不同的任務(wù), 需要規(guī)劃機(jī)械臂關(guān)節(jié)空間的運(yùn)動軌跡，從而級聯(lián)構(gòu)成末端位姿 [1]  。機(jī)器人系統(tǒng)是由視覺傳感器、機(jī)械臂系統(tǒng)及主控計算機(jī)組成，其中機(jī)械臂系統(tǒng)又包括模塊化機(jī)械臂和靈巧手兩部分。整個系統(tǒng)的構(gòu)建模型如圖1 所示．清遠(yuǎn)新款晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂怎么聯(lián)系

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